当社グループでは、水使用量の削減に取り組むとともに水のリサイクルを推進しています。2008年度の当社グループ国内外事業所の水使用量は約1,911万m³で、昨年に比べ約295万m³の減少となりました。主に、国内の水使用量（特に、地下水）が減少しています。
当社グループでは、グループの水使用量の約6割を占める半導体部門で独自に開発した排水処理技術により、この排水をシリコン汚泥と水に分離し、分離した水は再び純度を高めて超純水として利用しているほか、低品位の洗浄水や冷却水にも利用するなど、工場でトータルに水を利用できる施策を展開しています。

※　非地下水とは、主に工業用水や水道水のことで、河川や湖沼からの利用水も含まれます。

※　地下水とは、主に井戸水のことで、山麓地など地下水の豊富な地域で利用されています。

※　対象範囲は、ISO14001の認証を受けている拠点で、全世界の製造拠点が含まれます。 　
（一部、認証を受けたばかりの新会社などは一定の猶予期間を認めています）

• 排水モニタリングデータ（東京製作所）
• 排水モニタリングデータ（岐阜事業所）
• 排水モニタリングデータ（大東事業所）
• 排水モニタリングデータ（加西事業所）
• 排水モニタリングデータ（洲本事業所）
• 排水モニタリングデータ（徳島工場）
• 排水モニタリングデータ（三洋半導体製造（株）本社・新潟工場）
• 排水モニタリングデータ（三洋エナジートワイセル（株）貝塚事業所）

※　滋賀事業所では2007年度より工場排水が発生しなくなったため、モニタリングデータはありません。

半導体部門で使用する純水は、主にシリコンウェハの切削・研磨水として使います。この排水をシリコン汚泥と水に分離し、分離した水は再び純度を高めて超純水として利用しているほか、低品位の洗浄水や冷却水に利用するなど、工場においてトータルに水を利用できる施策をグループ全体で展開しています。また、シリコン汚泥から回収したシリコンは、埋め立てて処分することなく、再利用しています。

当社グループでは、事業活動によって地域の生物多様性に重大な影響を及ぼさないよう、化学物質の管理や水資源の保護に取り組むとともに、森林保全活動や希少生物種の保護など、生物多様性の保持に向けた取り組みを行っています。
半導体を製造する関東三洋セミコンダクターズ（株）羽生工場では、生産工程で使用した水を再生し、工場内で有効活用する「排水ゼロシステム」を確立しています。また同工場では、再生された水を活用して構内にビオトープをつくり、そのなかで天然記念物である「ムジナモ」の保護と育成に取り組んでいます。殖えた株は近隣の小学校などに株分けし、課外学習の教材などに役立てていただいています。

ムジナモの開花